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淺談無(wú)塵布的測(cè)試方法
日期：2025-01-05 18:18
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摘要：
無(wú)塵布需進(jìn)行嚴(yán)格測(cè)試以達(dá)到性能要求和污染控制標(biāo)準(zhǔn)，一般無(wú)塵布需進(jìn)行以下測(cè)試：
通常，抗磨損性測(cè)試屬于布料物理性質(zhì)的測(cè)試。但在無(wú)塵布的測(cè)試中，因?yàn)槟p的過(guò)程會(huì)產(chǎn)生塵粒，因此，將無(wú)塵布的抗磨損性測(cè)試歸納為污染控制范圍更合適。
測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：抗磨損性越強(qiáng)越不容易產(chǎn)生塵粒。
根據(jù)ASTM-D-3776測(cè)試無(wú)塵布單位面積的重量，參考測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：一般要求在150－300g/m2，根據(jù)IEST-RP-CC004.3第8節(jié)要求，需測(cè)試無(wú)塵布的吸收量和吸收速率。 吸液量反映的是單位面積的無(wú)塵布的吸收液體的毫升數(shù)。 吸液速率是指無(wú)塵布吸收10ml液體所需的時(shí)間。 以上兩種測(cè)量都須測(cè)量三次并計(jì)算平均值。
參考測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：吸液量一般不小于400g/m2。
吸液速度一般不大于1秒。
▲ IC測(cè)試 根據(jù)IEST-RP-CC004.3第7.2節(jié)要求，定性定量地測(cè)量無(wú)機(jī)陰陽(yáng)離子含量。
參考測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)，在磁頭行業(yè)，一般要求CL-≤0.03ug/cm2; SO42-≤0.03ug/cm2; NO3-≤0.03ugcm2; Total:＜1.0ug/cm2。
▲ NVR測(cè)試
根據(jù)IEST-RP-CC004.3第7.1節(jié)要求,測(cè)試單位面積上的不揮發(fā)性殘留物。
NVR測(cè)試是將無(wú)塵布浸泡于一定量的溶劑中一定量的時(shí)間，然后將無(wú)塵布取出，測(cè)試溶于溶劑中的不揮發(fā)性殘留物的質(zhì)量。
參考測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：在磁頭行業(yè)，一般要求＜3.0ug/cm2。
▲ LPC測(cè)試
根據(jù)IEST-RP-CC004.3第6.2.1節(jié)的要求，對(duì)無(wú)塵布進(jìn)行LPC測(cè)試。
LPC可測(cè)試無(wú)塵布上的液態(tài)塵粒數(shù)。
LPC測(cè)試是將無(wú)塵布浸泡在一定量的DI水中，經(jīng)過(guò)超聲波振蕩，檢測(cè)DI水中的塵粒濃度。
參考測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：在磁頭行業(yè)，一般要求＜30counts/cm2。
▲ FTIR測(cè)試
傅立葉變化紅外光譜測(cè)試。
參考測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：一般不允許有硅油、氨基化合物、增塑劑。
▲ GC測(cè)試
GC測(cè)試是用來(lái)分析無(wú)塵布上有機(jī)污染物種類(lèi)和含量的一種方法。
參考測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：在磁頭行業(yè)，要求Total:＜10ug。
